سرامیک کاربید سیلیکون: کاربردهای صنعت فتوولتائیک

سرامیک های کاربید سیلیکون دارای استحکام مکانیکی خوب، پایداری حرارتی، مقاومت در برابر دمای بالا، مقاومت در برابر اکسیداسیون، مقاومت در برابر شوک حرارتی و مقاومت در برابر خوردگی شیمیایی ...

تولید نانومواد با روش رسوب‌دهی شیمیایی بخار

برای این منظور، پلی سیلیکون با روش رسوب دهی شیمیایی در فشار پایین (lpcvd) در دماهای بالا رسوب داده می شوند. این ترکیبات می توانند به صورت نیمه رسانای دوپه شده (Doped) نوع (n) یا نوع (p) نیز رسوب دهی شوند.

سیلیکون کارباید چیست و چه ویژگی های کاربردی دارد؟

همچنین بخار شیمیایی سیلیکون کاربید رسوب یافته به نام CVD Silicon Carbide وجود دارد که یک شکل کاملاً خالص این ترکیب می باشد.

طرح تولید سیلیسیم کاربید

روش تولید این پوشش به صورت cvd یا رسوب دهی بخار شیمیایی است بدین صورت که عملیات پوشش دهی توسط جریان کربن و وجود سیلیکون در حضور گازی بی اثر (مثل هیدروژن خالص و. . .

سیلیکون کاربید چیست و چه کارایی در صنعت اتصالات دوار و دیگر صنایع دارد

همچنین بخار شیمیایی سیلیکون کاربید رسوب یافته به نام CVD Silicon Carbide وجود دارد که یک شکل کاملاً خالص این ترکیب می باشد. ویژگی های کاربردی سیلیکون کارباید

"استحکام هسته" تجهیزات نیمه هادی – اجزای کاربید سیلیکون

با توجه به فرآیند آماده سازی، قطعات کاربید سیلیکون را می توان به کاربید سیلیکون ته نشینی بخار شیمیایی (cvd sic)، کاربید سیلیکون متخلخل واکنش، کاربید سیلیکون متخلخل شده تبلور مجدد، کاربید ...

سیلیکون کارباید چیست و چه ویژگی های کاربردی دارد؟

روش‌های رسوب‌دهی شیمیایی بخار

۱- انواع روش های رسوب دهی شیمیایی بخار منابع زیادی مانند گرما، پلاسما، لیزر، فوتون و … برای تشکیل لایه نازک با رسوب دهی شیمیایی بخار استفاده می شود.

رسوب دهی شیمیایی بخار – Chemical Vapor Deposition

با استفاده از لایه نشانی به روش رسوب شیمیایی بخار، می‌توان نانو ساختار‌های متنوعی را مانند نانوساختار‌های سرامیکی، کاربید‌ها و نانولوله‌های کربنی ایجاد کرد.

معرفی سیلیکون کارباید | اپلیکیشن زینگ | باربری آنلاین

همچنین بخار شیمیایی سیلیکون کاربید رسوب یافته به نام CVD Silicon Carbide وجود دارد که یک شکل کاملاً خالص این ترکیب می باشد. ویژگی های کاربردی سیلیکون کارباید:

تجهیزات رسوب بخار شیمیایی کاربید سیلیکون

روش تولید این پوشش به صورت cvd یا رسوب دهی بخار شیمیایی است بدین صورت که عملیات پوشش دهی توسط جریان کربن و وجود سیلیکون در حضور گازی بی اثر (مثل هیدروژن خالص و. . .